钪靶 (Sc)

钪靶 (Sc)
材料类型:
符号:
Mol:


熔点 (°C):
密度:
原子序数 :
钪靶 (Sc)
Sc
1541°C


2836°C
2.989g/cm³
21
详细介绍

稀土钪靶是一种主要由钪(scandium)组成的靶材料,通常用于薄膜沉积或涂层应用的物理气相沉积(PVD)等工艺。这些靶材可以提供具有特定性能的薄膜或涂层,例如用于光学薄膜、电子设备、太阳能电池和保护涂层的薄膜或涂料。此外,钪在航空航天、照明、电子和合金制造等行业有着广泛的应用。稀土钪靶材的制备通常需要高纯度的原材料和严格的工艺控制,以确保所得薄膜或涂层具有所需的特性。

集成电路制造:在集成电路制造中,钪靶用于溅射沉积工艺。溅射钛膜可以用作阻挡层、扩散阻挡层、粘合层、电极等,用于制造MOS器件、DRAM存储器、NPN/PNP晶体管等。

太阳能电池:钪靶也广泛用于太阳能电池的制造。例如,它们可用于溅射沉积以形成太阳能电池的反射层,从而提高其光伏转换效率。

平板显示器:在平板显示器的制造中,钪靶用于溅射沉积,形成薄膜电容器、导电膜、保护层等,提高了显示器的性能和稳定性。

建筑装饰:钪靶材在建筑装饰行业有着广泛的应用。例如,通过溅射沉积技术,可以在玻璃、瓷砖和金属等材料的表面形成钛膜,增强建筑物的隔热、隔音和紫外线防护等功能。

汽车行业:钪靶也应用于汽车行业。例如,在汽车车窗玻璃上溅射沉积涂层可以提高车辆的隔热性能,减少空调的使用,降低能耗。


钪靶常规纯度REM≥99.9%, 蒸馏纯度REM≥99.99%,平均粒径<200um。

特点

•高纯度、高密度(接近100%)、低气体含量

•晶粒细化

•半导体级

•利用效率高

生产工艺

热压(HP)、热/冷等静压(HIP、CIP)、真空熔炼、真空烧结

定制尺寸

圆形:直径<=14英寸,厚度>=1mm;

矩形:长度<=48英寸,宽度<=15.75英寸,厚度>=1mm。

对于较大的产品尺寸,我们可以做45度或90度角拼接。

如果您有其他要求,我们可以为您定制。请提供图纸(PDF、JPG、PNG)。我们将提供有竞争力的价格以及高质量的产品,欢迎垂询,承诺在24小时内回复。



 


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