稀土铕溅射靶由稀土元素铕制成，通常用于薄膜沉积工艺，如物理气相沉积（PVD）和化学汽相沉积（CVD）。这些靶标在各个领域都有广泛的应用，主要包括：
光学应用：稀土铕靶材可用于生产具有特殊光学性能的薄膜，如荧光材料、荧光标记材料和发光二极管（LED）。铕具有独特的荧光特性，可以制备各种颜色的荧光材料，广泛应用于照明、显示器和荧光标记领域。
电子设备：铕化合物在电子设备中也有一些应用，例如用作场发射显示器（FED）中的荧光层和磁存储设备中的磁性材料。
生物医学：稀土铕靶点可能在生物医学领域得到应用，如生物分子和细胞的荧光标记、医学成像和药物输送。铕的荧光特性使其成为生物标记和成像的理想选择之一。
其他应用：稀土铕靶也可应用于其他领域，如纳米技术、磁性材料研究和储能。
铕靶常规纯度REM≥99.9%， 蒸馏纯度REM≥99.99%，平均粒径<200um。
特点：
•高纯度、高密度（接近100%）、低气体含量
•晶粒细化
•半导体级
•利用效率高
生产工艺：
热压（HP）、热/冷等静压（HIP、CIP）、真空熔炼、真空烧结
定制尺寸
圆形：直径<=14英寸，厚度>=1mm；
矩形：长度<=48英寸，宽度<=15.75英寸，厚度>=1mm。
对于较大的产品尺寸，我们可以做45度或90度角拼接。
如果您有其他要求，我们可以为您定制。请提供图纸（PDF、JPG、PNG）。我们将提供有竞争力的价格以及高质量的产品，欢迎垂询，承诺在24小时内回复。
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