稀土钕靶材由稀土元素钕制成，主要用于各种工业和技术应用的薄膜沉积工艺。钕具有独特的物理和化学性质，使其广泛应用于多个领域。以下是稀土钕靶材的主要用途：
磁性材料制造：钕是生产钕铁硼（NdFeB）磁体的关键成分，钕铁硼磁体是市场上最强的永磁材料之一。尽管钕靶主要用于薄膜沉积，但它们也可能在制备和开发含钕磁性薄膜方面得到应用。
光电器件：钕的光学特性使其在激光技术中至关重要，特别是在制造某些类型的激光器时，如掺钕固态激光器（如Nd:YAG激光器）。钕靶材可用于沉积涂层，涂层是光电器件中的重要组成部分。
高性能涂层：钕靶材可用于沉积具有特定电和磁性能的薄膜，可应用于各种高科技设备和传感器。
科学研究：在材料科学和表面科学研究中，钕靶材可用于探索先进的材料性能和开发先进的涂层技术。
钕靶常规纯度REM≥99.9%， 蒸馏纯度REM≥99.99%，平均粒径<200um。
特点：
•高纯度、高密度（接近100%）、低气体含量
•晶粒细化
•半导体级
•利用效率高
生产工艺：
热压（HP）、热/冷等静压（HIP、CIP）、真空熔炼、真空烧结
定制尺寸
圆形：直径<=14英寸，厚度>=1mm；
矩形：长度<=48英寸，宽度<=15.75英寸，厚度>=1mm。
对于较大的产品尺寸，我们可以做45度或90度角拼接。
如果您有其他要求，我们可以为您定制。请提供图纸（PDF、JPG、PNG）。我们将提供有竞争力的价格以及高质量的产品，欢迎垂询，承诺在24小时内回复。
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