铈靶通常用于薄膜沉积的物理气相沉积（PVD）和化学汽相沉积（CVD）等工艺。它们主要用于制备铈化合物薄膜，在各个领域都有广泛的应用：
光学：稀土铈靶材可用于制备光学薄膜涂层，如反射镜、滤光膜等，以提高光学器件的性能和功能。
磁性材料：铈元素也用于一些稀土磁体，如铈铁磁体。这些磁性材料可用于制造磁记录材料、传感器等。
化学催化：铈元素在催化剂中起着重要作用，可用于提高化学反应的速率和效率，如汽车尾气净化催化剂中使用的铈基催化剂。
其他应用：除上述主要应用领域外，稀土铈靶材还可应用于其他领域，如电池材料、核能技术等。
铈靶常规纯度REM≥99.9%， 蒸馏纯度REM≥99.99%，平均粒径<200um。
特点：
•高纯度、高密度（接近100%）、低气体含量
•晶粒细化
•半导体级
•利用效率高
生产工艺：
热压（HP）、热/冷等静压（HIP、CIP）、真空熔炼、真空烧结
定制尺寸
圆形：直径<=14英寸，厚度>=1mm；
矩形：长度<=48英寸，宽度<=15.75英寸，厚度>=1mm。
对于较大的产品尺寸，我们可以做45度或90度角拼接。
如果您有其他要求，我们可以为您定制。请提供图纸（PDF、JPG、PNG）。我们将提供有竞争力的价格以及高质量的产品，欢迎垂询，承诺在24小时内回复。
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