稀土氧化物溅射靶材主要由镧、铈、钕、钇等稀土元素组成。这些稀土元素因其独特的电子结构，被广泛应用于制造具有特殊功能的薄膜。例如，稀土靶材用于显示技术以制造发光层，或用于数据存储技术以生产高密度存储材料。

高纯度：稀土氧化物靶材通常具有高纯度，这有助于在薄膜沉积过程中保持材料的纯度和一致性。

多种物理和化学性质：不同的稀土元素具有独特的电子结构和物理化学性质，使稀土氧化物靶材适用于广泛的应用。

高熔点：例如，氧化钇（Y2O3）的熔点高达2425°C，表明其高温稳定性。

典型应用：半导体和光伏行业：稀土氧化物靶材用于制备具有特殊电学和光学性能的薄膜，如高介电常数、特定光学性能或特定导电性，在传感器、光伏电池和显示技术中得到了广泛的应用。

显示技术：稀土靶材在显示技术中用于制造发光层，增强显示性能和色彩再现。

数据存储技术：用于制造高密度存储材料，提高数据存储效率和密度。

特种陶瓷和电子工业：氧化钇等材料因其高介电常数和化学稳定性而被用作电子陶瓷和电容器材料。

以下是我们通常提供的一些氧化物靶材。如果您有任何要求，请随时通过电话或在线咨询与我们联系。

特点：

•高纯度、高致密度(接近100%)、低气体含量

•晶粒细化

•半导体级

•利用效率高

生产工艺：

热压（HP）、热/冷等静压（HIP、CIP）、真空熔炼、真空烧结

定制尺寸

圆形：直径<=14英寸，厚度>=1mm；

矩形：长度<=48英寸，宽度<=15.75英寸，厚度>=1mm。

对于较大的产品尺寸，我们可以做45度或90度角拼接。

如果您有其他要求，我们可以为您定制。请提供图纸（PDF、JPG、PNG）。我们将提供有竞争力的价格以及高质量的产品，欢迎垂询，承诺在24小时内回复。