稀土硼化物溅射靶是由稀土元素和硼组成的复合材料，通常用于物理气相沉积（PVD）工艺中的薄膜沉积。稀土硼化物具有优异的机械、热和电性能。它们具有小功函数、高硬度、高熔点和高导电性。此外，它们还具有高杨氏模量、良好的热稳定性和化学稳定性。它们可以满足场发射性能的要求，如低开启电场和阈值电场。它们还具有较大的场发射增强因子和稳定的发射电流。

典型应用:

光学器件制造: 稀土硼化物靶材可用于制备反射镜、滤光膜等光学薄膜，用于光学器件的制造和优化。

电子设备制造: 在电子器件制造过程中，稀土硼化物靶材可用于沉积导电薄膜或其他功能薄膜，用于制造半导体器件、集成电路等。

磁性材料研究: 一些稀土硼化物具有磁性，可用于制备磁性薄膜和磁存储器件，应用于磁记录、传感器等。

功能材料研究: 稀土硼化物靶材也可用于研究其特殊的物理和化学性质，探索新型功能材料的合成和应用。

以下是我们通常提供的一些硼化物目标。如果您有任何要求，请随时通过电话或在线咨询与我们联系。

特点：

•高纯度、高致密度(接近100%)、低气体含量

•晶粒细化

•半导体级

•利用效率高

生产工艺：

热压（HP）、热/冷等静压（HIP、CIP）、真空熔炼、真空烧结

定制尺寸

圆形：直径<=14英寸，厚度>=1mm；

矩形：长度<=48英寸，宽度<=15.75英寸，厚度>=1mm。

对于较大的产品尺寸，我们可以做45度或90度角拼接。

如果您有其他要求，我们可以为您定制。请提供图纸（PDF、JPG、PNG）。我们将提供有竞争力的价格以及高质量的产品，欢迎垂询，承诺在24小时内回复。