钇合金溅射靶材由钇元素和其他金属元素组成，如ZrY, MgY, NiY, SnY合金溅射靶。钇合金溅射靶材的特点包括高纯度、优异的热稳定性、特定的光学和电学性能、良好的化学稳定性以及与各种材料的兼容性。

 典型应用：

制造高温耐腐蚀材料：在光电子、电子等高科技领域，其薄膜沉积的一致性和质量得到保证。

钇合金溅射靶材因其高纯度、稳定性和特定的物理化学性质，在薄膜沉积和微电子制造中占据着特殊的地位。这些特性使钇合金溅射靶材成为制备各种薄膜材料的理想选择。

高纯度。钇的纯度通常高达99.9%或99.99%，有助于减少杂质干扰，保证光电子、电子等高科技领域薄膜沉积的一致性和质量。优异的热稳定性。钇具有高熔点（约1522°C），可以在高温下保持稳定性，不易被氧化或发生其他化学反应。特定的光学和电学性质。使用钇合金溅射靶沉积的薄膜在光学和电气应用中表现出优异的性能，例如在某些光学涂层和微电子器件中。

良好的化学稳定性。钇和钇合金溅射靶对大多数化学物质具有优异的耐腐蚀性，在具有挑战性的环境中表现出长期稳定性。与其他材料的兼容性。

钇的化学性质使其能够与许多其他元素和化合物形成稳定的化合物或合金，为各种应用提供了广泛的可能性。

特点：

•高纯度、高致密度(接近100%)、低气体含量

•晶粒细化

•半导体级

•利用效率高

生产工艺：

热压（HP）、热/冷等静压（HIP、CIP）、真空熔炼、真空烧结

定制尺寸

圆形：直径<=14英寸，厚度>=1mm；

矩形：长度<=48英寸，宽度<=15.75英寸，厚度>=1mm。

对于较大的产品尺寸，我们可以做45度或90度角拼接。

如果您有其他要求，我们可以为您定制。请提供图纸（PDF、JPG、PNG）。我们将提供有竞争力的价格以及高质量的产品，欢迎垂询，承诺在24小时内回复。